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時間:2025-11-23 23:29:40 來源:網絡整理 編輯:熱點
集微網消息,國家知識產權局網站日前公開了上海傳芯半導體有限公司“曝光成像結構、反射式光掩模版組及投影式光刻機”發明專利申請。根據專利說明書,該發明提供一種用于EUV光刻的曝光成像結構、反射式光掩模版組 V型《1662+044+1662》上海黃埔區外圍酒店上門提供外圍女小姐上門服務快速安排人到付款

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